Les matériaux chalcogénures?

Les matériaux chalcogénures sont des composés non-oxydes contenant au moins un élément chalcogène (atomes de souffre S, sélénium Se ou tellure Te éléments figurant dans la colonne 16 du tableau périodique et n’incluant ni l’oxygène ni le polonium) le plus souvent associé à des éléments métalliques et/ou metalloïdes tels que As, Si, In, Sb, Sn, Ge ou Ga selon les applications.

Le Groupement de Recherche Chalco

Il existe actuellement en France une importante communauté pluridisciplinaire travaillant au meilleur niveau international avec et sur les matériaux chalcogénures. Si certaines parties de cette communauté sont d’ores et déjà structurées car travaillant autour du même champ applicatif, il n’existe pas de structure à l’échelle nationale permettant de recouvrir les différents champs disciplinaires des matériaux chalcogénures et promouvoir les interactions et les échanges au sein de cette communauté.
Nous pouvons citer en exemple les groupes travaillant sur les applications/propriétés optiques et les groupes focalisés sur les aspects plus fondamentaux ou encore les laboratoires s’intéressant aux applications en microélectronique. Bien qu’il existe des liens entre les équipes travaillant sur deux domaines contigus (comme par exemple entre la communauté de la théorie & simulation AIMD avec celle de la caractérisation-structure avancée ou entre cette dernière et les chercheurs en synthèse des matériaux puis entre cette communauté matériaux et les équipes R&D travaillant sur l’intégration de ces matériaux dans des composants jusqu’à la production industrielle de dispositifs basés sur ces chalcogénures), la mise en relation d’un bout à l’autre de la chaîne de connaissance depuis la recherche fondamentale jusqu’à la production industrielle reste marginale.

La mission principale de notre GDR est donc de créer un maillage vertical de la recherche fondamentale aux applications et transverse en regroupant les différents champs d’applications des matériaux chalcogénures.

Structuration

Le programme proposé par le GDR CHALCO repose sur l’animation croisée entre les trois axes transverses que sont la théorie, le design et la modélisation, l’élaboration des matériaux et enfin les caractérisations avancées et les quatre axes applicatifs : mémoires et neuromorphisme, optique et photonique, thermiques et énergie, spin-orbitronique.

Applications
mémoire,
neuromorphique
Applications
optique,
photonique
Applications
thermique,
énergie
Applications
spin-orbitronique
Théorie, design
et modélisation
CiNAM, IPCMS, LETI, CELIAICB, IF, FEMTO-ST,FOTON, CIMAP,IPCMS, ISCRILM, IPCMS, IEMN,IMN, LRCS, I. Néel,UCCS, Madirel, IM2NPSPINTEC, IPCMS, LPCNO
Elaboration des
matériaux
IMN, ICGM, ISCR,CEA-LETi, ICGM, Madirel, INL, IM2NP, LMGPISCR, ICB, FOTON,ICGM, CEA-LETi, LPL,INL, GPM, LPCA, IF,PhLAM, LPEM, INSPIMN, ILM, CEA-LETi,LRCS, ISCR, ICGM,Néél, Madirel, ICMCB,ISM, CRISMAT, LRCSSPINTEC, LETI
Caractérisation
avancées
Madirel, ICGM, ISCR,CEMES, CELIA,IM2NP, CEA-LETi,IEMN, LPCNOCEA-LETi, ICB,FOTON, ICGM, ISCR,CIMAP , LPL, LPCA,XLIM, LabHC, IF, INSPIEMN, LRCS, ICGM, ISCR, Néel, Madirel,I2M, INSPSPINTEC
Industriels
Structuration en 4 axes applicatifs et 3 champs transverses avec les différents laboratoires impliqués dans chaque axe/champ

Détails

Le GdR Chalco a été crée en 2022 pour 5 ans. Il est rattaché à l’Institut de Physique du CNRS, et dépend en second lieu de l’Institut de Chimie et de l’Institut des Sciences de l’Ingénierie et des Systèmes. Il comporte 34 laboratoires/instituts et 53 groupes.